第452章 光刻机

    想要进入研究院的车间。

    那复杂程度不亚于西天取经。

    防护服得穿上。

    然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。

    在经过紫外线照射等等环节。

    从准备到进入，差不多要花上一个多小时。

    没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。

    光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。

    再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。

    如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。

    光在哪里传播呢？自然是空气。

    这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。

    哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。

    现在91年，光刻机的精密度还没有那